製品レイアウト

世界的に有名な半導体シリコンウェーハサプライヤーとして、ウェーハワークスはお客様に最高品質の製品とサービスを提供することに尽力してきました。当社の製品ラインナップには、12インチ以下のポリッシュドウェーハ、エピタキシャルウェーハ、両面ウェーハ、ラップドウェーハ、エッチングウェーハ、超厚・超薄ウェーハ、そして各種ドーピングが可能なSOIウェーハが含まれます。さらに、さまざまなアプリケーションにおける個別ニーズに対応するために、最適な製品とサービスをカスタマイズしてご提供しています。当社は、結晶成長からエピタキシャル成膜に至るまでの材料知識と統合技術を活かし、現在および将来のお客様のニーズに応える体制を整えています。たとえば、8インチ製品の場合、以下の図に示すように、構成部品および最終用途に基づいた多様なカテゴリに分類されており、それぞれに最適な材料および製造技術が適用されています。これにより、高度にカスタマイズされた製品とサービスの提供が可能です。他のサイズのウェーハにおいても、同様の製品レイアウトを展開しております。詳細につきましては、お気軽にお問い合わせください。

 

 

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特定用途

対応ウェーハ種類

超低抵抗から超高抵抗までのポリッシュドウェーハ

  • N型/P型エピタキシャルおよびSOI対応

主な対応デバイス

MEMS、パワーMOSFET、PMIC(電源管理IC)など

 

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パワー用途

対応ウェーハ種類

低抵抗または超低抵抗ポリッシュドウェーハ

  • N型/P型エピタキシャル対応

主な対応デバイス

パワーMOSFET、BJT、ダイオード、サイリスタ、IGBT、CoolMOS、スーパージャンクションなど

 

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イメージング用途

対応ウェーハ種類

低抵抗ポリッシュドウェーハ

  • N型/P型エピタキシャル対応

主な対応デバイス

イメージセンサ、CIS(CMOSイメージセンサ)など

 

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アナログ用途g

対応ウェーハ種類

軽ドープポリッシュドウェーハ

  • N型/P型エピタキシャル対応

主な対応デバイス

LEDドライバ、PMIC(電源管理IC)など

 

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ロジック用途

対応ウェーハ種類

軽ドープポリッシュドウェーハ

  • N型/P型エピタキシャル対応

主な対応デバイス

標準ロジックIC、ASIC(アプリケーション固有IC)

 

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高周波用途(RF)

対応ウェーハ種類

超高抵抗ポリッシュドウェーハ

  • N型/P型エピタキシャルおよびSOI対応
  • GaNエピタキシャル成長対応ポリッシュドウェーハ

主な対応デバイス

RFデバイス

 

 

 

技術プラットフォーム

ウェーハワークスは、包括的な製品ラインアップを基盤に、結晶成長からエピタキシャル成膜に至るまでの幅広い工程において、自社開発による技術とノウハウを蓄積してきました。以下の表は、当社が保有する主要技術の概要です。

advantage01結晶成長技術

  • 結晶成長用熱場の設計能力
  • 制御システムの設計能力
  • 結晶成長シミュレーション技術
  • 超低抵抗結晶成長技術(高濃度ドーピング)
  • 超低欠陥結晶成長技術(軽ドーピング)
  • 高抵抗・低酸素含有結晶成長技術
  • 多元素ドーピング結晶成長技術

 

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ウェーハ技術

  • ウェーハ応力制御技術
  • 両面ポリッシュ技術
  • ウェーハ裏面コーティング技術
  • 熱処理技術
  • ウェーハ接合技術

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エピタキシャル技術

  • 多層エピタキシャル技術
  • 超厚膜エピタキシャル技術
  • 埋込層(バリードレイヤー)エピタキシャル技術
  • 異種材料エピタキシャル技術

 

 

技術開発

ウェーハワークスは、半導体シリコンウェーハのリーディングサプライヤーを目指し、最先端技術における自社開発に積極的に取り組んでいます。総合的な製品レイアウトを確立するだけでなく、ウェーハサイズの開発効率を高めることで、技術研究・革新・開発のタイムラインを短縮し、ターゲット市場への迅速な参入と強固な顧客基盤の構築を実現しています。

 

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